반도체 장비업체 ‘ASML’이 올해 600명 규모의 엔지니어를 대거 모집, 노광장비 증산을 본격화하고 있다. 메모리나 AP 칩 등 첨단 미세공정을 필요로 하는 7나노이하의 반도체 수요 급증에 대응하기 위해서다.

ASML 노광장비는 생산량에 한계가 있어 그동안 생산량의 거의 대부분을 삼성과 TSMC가 치열한 확보경쟁을 벌여왔다. 이 장비를 사용할 수 있는 반도체기업은 사실상 삼성과 TSMC가 대부분이었고 이번에 인원 확충 소식을 가장 반기는 업체도 이 두 기업이다.

ASML은 네덜란드 굴지의 반도제 장비업체로 반도체 미세 공정에 없어서는 안될 EUV(극자외선노광장비)를 전세계에서 유일하게 생산하는 업체다. EUV 장비 한 대당 가격이 1500억원~2000억원에 달한다. 

차세대 D램 생산과 파운더리 미세공정에 반도체 업체들이 너도나도 뛰어들면서 EUV 생산업체인 ASML의 몸 값은 치솟고 있다.

최근 대만의 정보지 타이페이 타임즈는 ASML의 대대적인 인력 보충이 시작됐고 규모는 600명이라고 보도했다. 인력이 보충되면 ASML 인력은 올해 3400명에 이르게 될 전망이다.

ASML은 지난해 31개의 EUV 장비(총 약6조7천억원)를 글로벌 반도체 업체들에게 판매했다.

반도체 미세공정의 강력한 도구 ‘EUV’

ASML이 반도체 업계의 ‘수퍼을’이라는 별칭을 얻은 것이 바로 EUV 노광장비 생산기술 때문이다.

EUV는 빛의 파장길이가 13.5나노미터로 매우 짧아 최첨단 미세 반도체 회로를 그리는 데 강력한 도구다.

특히 요즘 반도체 업체들이 10나노 이하 최첨단 미세공정을 요구하는 반도체칩 생산에 본격적으로 뛰어들면서 EUV에 대한 투자를 늘리고 있다. ASML이 만든 EUV를 몇대 확보하고있느냐가 곧 그 기업이 어떤 반도체를 생산할 수 있느냐의 바로미터로 작용하고 있다시피했다. 캐논등 일본업체들도 EUV장비를 만들고 있긴 하지만 경쟁사로 보기에는 수준차이가 너무 나는 상황이다.

하지만 EUV 노광 장비 한 대당 제작기간이 무려 5개월이 걸리고 연간 제작 대수도 30개에서 35개 사이다. 주문해도 1년 반 이상은 기다려야 한다. ASML이 어느 반도체 업체에 장비를 공급하느냐에 반도체 산업의 패권이 결정될 수 있는 것,

반도체 업계의 한 관계자는 "장비확보가 늦어지면 경쟁에서 뒤쳐지는 반도체 업체로는 ASML의 이번 인력 확충 발표가 희소식일 수 있다. EUV 장비 생산이 늘어날 것을 기대하기 때문"이라고 말했다.